2021中国（深圳）国际光刻设备与光掩膜应用技术展览会

展会日期	2021-08-23 至 2021-08-25
展出城市	深圳
展出地址	深圳国际会展中心 （宝安）
展馆名称	深圳国际会展中心 （宝安）
主办单位	2021中国（深圳）国际光刻设备与光掩膜应用技术展览会-组委会

2021中国（深圳）国际光刻设备与光掩膜应用技术展览会
时间：2021年8月23-25日     地点：深圳国际会展中心  （宝安）

█展会背景
微电子技术的发展一直是光刻设备和技术变革的动力，21世纪光刻技术将继续居于诸多技术之首。光刻技术从诞生以来,在半导体加工制造行业中,作为图形转移技术而广为应用。随着芯片集成度的不断提高、器件尺寸的不断缩小以及器件功能的不断提高,半导体加工技术中最为关键的光刻技术和光刻工艺设备,必将发生显著的变化。
随着集成电路产业的发展，高端芯片的集成度达到了数千乃至数亿晶体管，推动芯片封装技术向更高密度、更高性能发展，在传统的接近/接触式光刻机日趋无法满足高性能、高密度、低成本的先进封装工艺发展需求的情况下，先进的大视场、大焦深、高精度投影光刻机逐步成为先进封装生产线的关键设备。由亨劢会展（上海）有限公司于众多协会携手在深圳会展中心举办“2021中国（深圳）国际光刻设备与光掩膜应用技术展览会暨发展论坛”，欢迎广大相关单位参展、参观！                                               

█日程安排：
报到布展：2021年8月21-22日   展出时间: 2021年8月23-25日
展出地点：深圳国际会展中心  （宝安）

█顶级盛会（大会设赞助、协办单位，详情请致电组委会）
品牌展示 高层论坛 行业用户洽谈会 外商采购会 新技术新产品发布会  
“搭建国际采购贸易平台、促进企业交流合作、提高参展效果”
                                                           ————将是我们的目标！
◆规模空前——展出面积35,000平方米，国际标准展位共800个，超30000名专业观众
◆商机无限—采购商云集，光刻设备与掩膜技术行业巨大商机全面彰显，接触分享全球光刻设备与掩膜技术行业市场潜力
◆技术荟萃—国内外最新产品及成果荟萃，展会-论坛-经贸合作，是企业宣传及市场开拓的高效平台
◆项目汇聚—每年一度的行业例会，贸易对口洽谈，国际贸易公司定点采购，是会展招商的重要平台

█展品范围：
◆曝光光源、光学系统、电系统、机械系统和控制系统等；
◆光刻机、光刻技术、步进投影光刻机、扫描投影光刻机、纳米光刻技术、无掩模光刻技术、沉浸式光刻技术、准分子激光光刻技术、极紫外光刻机、电子束光刻、离子束光刻、X射线光刻、STM光刻、纳米压印光刻技术、微光刻技术、电子束曝光机、离子束曝光、3D 打印、刻蚀机、光刻机零部件、光刻前处理材料、曝光系统、光刻-掩模无机芯片与加工系统、光源与光刻胶、光刻胶原材料、光刻胶涂覆与处理设备等；
◆光掩膜、铬版、干版，凸版、液体凸版、菲林、二元光掩膜及相位移光掩膜、光掩膜图形描绘设备、光掩模测试等； 

█观众范围：
◆展会将邀请全国、省、市、各相关科研单位：电子、微电子、光电子、集成电路、半导体、微/纳电机系统、芯片制造、生物器件、纳米科技、平板显示、IC制造、光伏、航空航天、国防军工、IC、TP、LED、LCD、分立器件、太阳能、印刷、影像等制造业、大学、研究所、咨询机构和公共机构的专家代表等人员到会参观、洽谈。
◆预计展览会将吸引来自中国、日本、欧洲、北美、韩国、台湾等国家和地区的决策者和专业人士。来自各国的参展商可以在展会中面对面会见极具潜力的应用客户群和合作伙伴。参展商通过光刻设备与光掩膜技术展会，进一步发展中国和亚洲地区市场。

█参展细则  标准展位费用：（注：双面开口加10%开口费）
展位规格 国内企业 合资企业 外资企业
标准展位(3m*3m)9㎡ RMB 15000/9㎡展期 RMB 17000/9㎡展期 USD 3000/9㎡展期
光地（36 ㎡） RMB 1600/ ㎡展期 RMB 1800/ ㎡展期 USD 300/ ㎡展期
◆标准展位费用：包括展出场地、2.5m高壁板、楣牌制作、9平方米地毯、洽谈桌一张、椅子二把、10A/220V 单相插座一个，射灯二支。 
◆空场地不带任何展架及设施，参展商自行安排特殊装修工作或委托组织单位推荐的搭建公司。
◆广告刊例 
注：会刊规格（135mm * 210mm)、进口铜版纸、版面内容由展商自行设计。
封面 封二 封三 封底 扉页 彩色整版 黑白整版 文字简介
25000元 18000元 12000元 18000元 12000元 6000元 4000元   2000元
◆新技术发布会、新产品推广会，专题研讨会
主办单位计划在展览期间开展一系列新产品新技术发布会、新产品推广会、产品专题研讨会，参展商可以获得研讨会优先赞助权，有关公司可以自主确定报告内容，负责提供相关文件，每家赞助公司可以自定邀请观众数量。
★每场收费20,000元RMB，时间为45分钟（含场地各类配套设施、宣传费用等）

█参展事项
1、参展单位详细填写好《参展合同表》并加盖公章，邮寄或传真至组委会；
2、组委会收到确认申请表，参展商于3个工作日内将参展费用50%或全款汇入组委会帐户，并将汇款凭证传真至组委会以便查对，否则不予保留预订展位。
3、展位安排以“先报名、先交款、先安排”为原则，组委会有权对少量展位予以调整；
4、展品运输、展会接待、住宿等事宜将在开展前一个月组委会另行发送《参展商手册》。
                                                                                  
2021中国（深圳）国际光刻设备与光掩膜应用技术展组委会 
亨劢会展（上海）有限公司
咨询热线：021-5415 5272 
商务QQ：295662837 
联系人：梁家金13681658788    
邮  箱：295662837@qq.com 

2021中国（深圳）国际光刻设备与光掩膜应用技术展览会
时间：2021年8月23-25日     地点：深圳国际会展中心  （宝安）

█展会背景
微电子技术的发展一直是光刻设备和技术变革的动力，21世纪光刻技术将继续居于诸多技术之首。光刻技术从诞生以来,在半导体加工制造行业中,作为图形转移技术而广为应用。随着芯片集成度的不断提高、器件尺寸的不断缩小以及器件功能的不断提高,半导体加工技术中最为关键的光刻技术和光刻工艺设备,必将发生显著的变化。
随着集成电路产业的发展，高端芯片的集成度达到了数千乃至数亿晶体管，推动芯片封装技术向更高密度、更高性能发展，在传统的接近/接触式光刻机日趋无法满足高性能、高密度、低成本的先进封装工艺发展需求的情况下，先进的大视场、大焦深、高精度投影光刻机逐步成为先进封装生产线的关键设备。由亨劢会展（上海）有限公司于众多协会携手在深圳会展中心举办“2021中国（深圳）国际光刻设备与光掩膜应用技术展览会暨发展论坛”，欢迎广大相关单位参展、参观！                                               

█日程安排：
报到布展：2021年8月21-22日   展出时间: 2021年8月23-25日
展出地点：深圳国际会展中心  （宝安）

█顶级盛会（大会设赞助、协办单位，详情请致电组委会）
品牌展示 高层论坛 行业用户洽谈会 外商采购会 新技术新产品发布会  
“搭建国际采购贸易平台、促进企业交流合作、提高参展效果”
                                                           ————将是我们的目标！
◆规模空前——展出面积35,000平方米，国际标准展位共800个，超30000名专业观众
◆商机无限—采购商云集，光刻设备与掩膜技术行业巨大商机全面彰显，接触分享全球光刻设备与掩膜技术行业市场潜力
◆技术荟萃—国内外最新产品及成果荟萃，展会-论坛-经贸合作，是企业宣传及市场开拓的高效平台
◆项目汇聚—每年一度的行业例会，贸易对口洽谈，国际贸易公司定点采购，是会展招商的重要平台

█展品范围：
◆曝光光源、光学系统、电系统、机械系统和控制系统等；
◆光刻机、光刻技术、步进投影光刻机、扫描投影光刻机、纳米光刻技术、无掩模光刻技术、沉浸式光刻技术、准分子激光光刻技术、极紫外光刻机、电子束光刻、离子束光刻、X射线光刻、STM光刻、纳米压印光刻技术、微光刻技术、电子束曝光机、离子束曝光、3D 打印、刻蚀机、光刻机零部件、光刻前处理材料、曝光系统、光刻-掩模无机芯片与加工系统、光源与光刻胶、光刻胶原材料、光刻胶涂覆与处理设备等；
◆光掩膜、铬版、干版，凸版、液体凸版、菲林、二元光掩膜及相位移光掩膜、光掩膜图形描绘设备、光掩模测试等； 

█观众范围：
◆展会将邀请全国、省、市、各相关科研单位：电子、微电子、光电子、集成电路、半导体、微/纳电机系统、芯片制造、生物器件、纳米科技、平板显示、IC制造、光伏、航空航天、国防军工、IC、TP、LED、LCD、分立器件、太阳能、印刷、影像等制造业、大学、研究所、咨询机构和公共机构的专家代表等人员到会参观、洽谈。
◆预计展览会将吸引来自中国、日本、欧洲、北美、韩国、台湾等国家和地区的决策者和专业人士。来自各国的参展商可以在展会中面对面会见极具潜力的应用客户群和合作伙伴。参展商通过光刻设备与光掩膜技术展会，进一步发展中国和亚洲地区市场。

█参展细则  标准展位费用：（注：双面开口加10%开口费）
展位规格 国内企业 合资企业 外资企业
标准展位(3m*3m)9㎡ RMB 15000/9㎡展期 RMB 17000/9㎡展期 USD 3000/9㎡展期
光地（36 ㎡） RMB 1600/ ㎡展期 RMB 1800/ ㎡展期 USD 300/ ㎡展期
◆标准展位费用：包括展出场地、2.5m高壁板、楣牌制作、9平方米地毯、洽谈桌一张、椅子二把、10A/220V 单相插座一个，射灯二支。 
◆空场地不带任何展架及设施，参展商自行安排特殊装修工作或委托组织单位推荐的搭建公司。
◆广告刊例 
注：会刊规格（135mm * 210mm)、进口铜版纸、版面内容由展商自行设计。
封面 封二 封三 封底 扉页 彩色整版 黑白整版 文字简介
25000元 18000元 12000元 18000元 12000元 6000元 4000元   2000元
◆新技术发布会、新产品推广会，专题研讨会
主办单位计划在展览期间开展一系列新产品新技术发布会、新产品推广会、产品专题研讨会，参展商可以获得研讨会优先赞助权，有关公司可以自主确定报告内容，负责提供相关文件，每家赞助公司可以自定邀请观众数量。
★每场收费20,000元RMB，时间为45分钟（含场地各类配套设施、宣传费用等）

█参展事项
1、参展单位详细填写好《参展合同表》并加盖公章，邮寄或传真至组委会；
2、组委会收到确认申请表，参展商于3个工作日内将参展费用50%或全款汇入组委会帐户，并将汇款凭证传真至组委会以便查对，否则不予保留预订展位。
3、展位安排以“先报名、先交款、先安排”为原则，组委会有权对少量展位予以调整；
4、展品运输、展会接待、住宿等事宜将在开展前一个月组委会另行发送《参展商手册》。
                                                                                  
2021中国（深圳）国际光刻设备与光掩膜应用技术展组委会 
亨劢会展（上海）有限公司
咨询热线：021-5415 5272 
商务QQ：295662837 
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